Técnicas de litografia em escala sub-meio mícron são apresentadas com foco em processos de fotolitografia e transferência de padrão para ULSIs. O texto descreve parâmetros de processo, tipos de resistores e considerações sobre máscaras.

Desenvolvimentos experimentais e limitações práticas aparecem ligados a equipamentos de exposição e técnicas de alinhamento. Há também uma análise dos impactos de variabilidade de processo na reprodução de feições submicrométricas.

Aplicações industriais e passos de fabricação são discutidos com exemplos de otimização de rendimento e controle de defeitos. Capítulos incluem orientações sobre metrologia e inspeção para produção em escala.